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　　中商情报网讯：光刻机是一种将方针结构图样印刷到硅片等基底上的机器，其机理相似相片冲印进程，是半导体制作中最重要的设备之一。光刻机的作业流程最重要的包括预备、涂覆、曝光、显影、腐蚀、清洗和检测等过程。光刻机技能是当时半导体制作范畴的关键技能之一，其技能水平的提高直接决议了芯片制作工艺的前进和开展。现在，全球前道光刻机商场被ASML、尼康、佳能等公司独占。

　　跟着国家对半导体工业的注重和投入加大，国内光刻机公司开端加快自主研制和立异。上海微电子是国内仅有一家出产高端前道光刻机整机的公司，现已完成了90nm光刻机的量产，并在不断尽力打破先进制程，加快国产化进程。此外，国内还有多家企业在光刻机工业链的相关零部件范畴取得了打破，如光源体系、照明体系和投影物镜等环节。